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[单选题]

在手工操作进行直段角钢劈角时,常用一种呈不同角度数的()劈角。

A.平锤

B.凸锤

C.手锤

D.大锤

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第1题
在图示的直动滚子推杆盘形凸轮机构中,凸轮为一偏心圆,已知OA=12mm,e=10mm,R=30mm,r_r=8mm,凸轮转速为n=180r/min。求:(1)推程段推杆的位移、速度和角速度方程;(2)推程时推杆的最大速度和最大角速度;(3)该凸轮机构的最大..

在图示的直动滚子推杆盘形凸轮机构中,凸轮为一偏心圆,已知OA=12mm,e=10mm,R=30mm,r_r=8mm,凸轮转速为n=180r/min。求:(1)推程段推杆的位移、速度和角速度方程;(2)推程时推杆的最大速度和最大角速度;(3)该凸轮机构的最大压力角。

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第2题
制备复合树脂充填洞形时应注意A. 要去尽无基釉质,增加抗力形 B.底要平,洞壁要直,洞形必须要深 C.

制备复合树脂充填洞形时应注意

A. 要去尽无基釉质,增加抗力形 B.底要平,洞壁要直,洞形必须要深 C.点、线、角应圆钝,洞缘釉质壁应制成斜面,倒凹宜呈圆弧形 D.为制备获得良好的固位形,必须磨除正常的牙体组织 E.无需去尽无基釉质,也无需在洞缘角制备短斜面

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第3题
下列表述中最符合绵霉属特征的是()A、外菌丝呈分支,多核有隔膜。菌丝宽度较宽,是丝状真菌中菌丝最

下列表述中最符合绵霉属特征的是()

A、外菌丝呈分支,多核有隔膜。菌丝宽度较宽,是丝状真菌中菌丝最宽的一种

B、外菌丝细小,二叉状分支,多核无隔膜

C、外菌丝多核有隔膜,菌丝宽度较细小,是丝状真菌中菌丝最细小的一种

D、外菌丝直而粗壮,二叉状分支,多核无隔膜,只在形成繁殖器官时才形成隔膜。菌丝宽度是丝状真菌中菌丝最宽的一种

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第4题
脊髓哪个部位损害可出现呈节段性下运动神经元性瘫痪

A.前角

B.后角

C.侧索

D.后索

E.侧角

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第5题
患者女性,50岁,Ⅰ型糖尿病,需注射胰岛素,护士对其进行的注射指导中,正确的是A.饭后30分钟注射B.注

患者女性,50岁,Ⅰ型糖尿病,需注射胰岛素,护士对其进行的注射指导中,正确的是

A.饭后30分钟注射

B.注射时只需乙醇消毒

C.应选用5ml注射器

D.注射部位可选在腹壁

E.进针时针头与皮肤呈5°角

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第6题
下面对上中切牙唇面形态的描述中哪个是错误的A、唇面光滑平坦呈梯形B、近中缘与切缘较直C、远中角圆

下面对上中切牙唇面形态的描述中哪个是错误的

A、唇面光滑平坦呈梯形

B、近中缘与切缘较直

C、远中角圆钝

D、唇面有3~4条纵形的发育沟正切龈高度大于近远中高度

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第7题
下述对上颌第一磨牙面形态的描述中错误的是A.抬面轮廓呈斜方形B.近中边缘嵴较远中边缘嵴长而直C.

下述对上颌第一磨牙面形态的描述中错误的是

A.抬面轮廓呈斜方形

B.近中边缘嵴较远中边缘嵴长而直

C.近中颊角及远中舌角是钝角

D.近中舌尖三角嵴与远中颊尖三角嵴连成斜嵴

E.近中窝大于远中窝

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第8题
进行深部组织止血时,常用的器械是()

A.敷料

B.蚊式持针钳

C.长直止血钳

D.长弯止血钳

E.高频电刀

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第9题
下面对上中切牙唇面形态的描述,哪个是错误的

A、唇面光滑平坦呈梯形

B、近中缘与切缘较直

C、远中角圆钝

D、唇面有3~4条纵形的发育沟

E、切龈高度大于近远中高度

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第10题
患者女性,20岁,因“上颌中切牙颜色变黑”来诊。口腔检查:左上1近中面及舌面出现黑色龋损,冷、热刺激
不敏感,探诊(-),叩诊(-),牙龈无红肿,拟行复合树脂修复。对该患牙进行比色,操作正确的是A、将手术灯关闭

B、比色前清洁患牙和邻牙表面

C、橡皮障隔离之后,牙呈自然湿润状态下进行

D、患者平躺于椅位,医师位于患者头部12点方向,视线与牙面成45°角

E、先确定彩度和明度,再确定牙的色系

F、强光下比色

对该患牙使用橡皮障,操作正确的是A、至少隔离暴露3个以上的牙

B、隔离左上第1前磨牙至右上第1前磨牙

C、隔离第1磨牙至对侧侧切牙

D、隔离范围越大越好

E、与根管治疗时橡皮障隔离类似

F、可与楔子配合使用

拟行复合树脂充填,关于其牙体预备,叙述正确的是A、去除龋损、有缺陷组织或材料以及脆弱的牙体结构

B、预备洞缘,除根面窝洞的洞缘角为90°外,其他部位的釉质洞缘角应大于90°

C、提倡微创理念,尽可能保存牙体组织

D、轴壁和髓壁应预备至一定的深度

E、不需要预备釉质斜面

F、外形保守,底平壁直

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第11题
复合树脂充填洞形制备特点是A.底平壁直,洞形必须达到一定的深度B.点线角应圆滑,洞缘角应制备短斜

复合树脂充填洞形制备特点是

A.底平壁直,洞形必须达到一定的深度

B.点线角应圆滑,洞缘角应制备短斜面

C.应制备典型的箱状洞,并设计良好的固位形

D.洞缘角应呈直角,不宜在洞缘角制备短斜面,需去净无基釉

E.无需去净无基釉,但要有良好的抗力形

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