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针对甩胶、DAF膜上芯产品,芯片四周可以不出胶。()

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第1题
DAF膜上芯产品,粘接部位垫块温度应控制在()。

A.110~130℃

B.100~150℃

C.100~110℃

D.130~150℃

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第2题
按照目前工艺,DAF膜上芯产品,粘接部位垫块温度应控制()。

A.110~130℃

B.100~150℃

C.100~110℃

D.130~150℃

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第3题
WAFERMAPPING产品在上芯过程中若出现跳行。跳列有芯片遗漏在蓝膜上时应该:()。

A.从圆片起始位置重新跳步做起

B.手工补片或移行后重做

C.关掉MAP捡拾遗漏芯片

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第4题
关于上芯顶针痕迹监控项目,描述错误的有:()。

A.上芯顶针痕迹检查频次为1次/批

B.在100X显微镜下检查顶针痕迹时,如果顶针痕迹不清晰,未造成明显的不良,则判定为合格

C.MOSFET产品在100X显微镜下检查时,如有顶针印记,则判断为不良

D.在监控顶针痕迹时,必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控,不允许使用镊子从兰膜上直接夹取

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第5题
上芯后兰膜的检查目的是为了预警崩单晶、翘片、沾污、漏芯片。()
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第6题
上芯后兰膜检查项目有哪些()。

A.顶针孔是否有顶破兰膜

B.顶针孔位置是否位于芯片中心

C.兰膜上是否有硅渣及背崩残留

D.是否漏好芯片

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第7题
上芯后的兰膜目测检查项目有()。

A.顶针是否偏移

B.是否有背崩

C.是否漏芯片

D.是否有沾污

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第8题
上芯后兰膜检查项目有()。

A.顶针孔位置是否位于芯片中心

B.顶针孔是否有顶破兰膜,造成兰膜缺损

C.多顶针系统顶针印痕迹轻重程度是否一致

D.兰膜上是否有硅渣及背崩残留

E.背金属晶圆是否有背金属脱落现象

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第9题
造成芯片位置不良的因素有()。

A.芯片位置调整错误(角度、方向、位置超出压焊图及质量标准要求)

B.上芯设备调试不当

C.因装片胶中有异物等原因导致芯片不平整(平整度大于1mils)

D.引线框架上料未核对方向

E.上芯后产品传递不规范

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第10题
上芯后兰膜检查频次为()。

A.1次/更换晶圆

B.1次/更换产品

C.1次/更换客户

D.1次/更换封装形式

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第11题
上芯MAP调取过程,说法正确的有()。

A.调取MAP时,应由小组生产组长做二次确认

B.加工ELQFP176及VSOP8L产品时,读取MAP必须使用条码扫描读取,不得手动调用

C.在调取MAP后,应核对调出的MAP好芯片数量与中测单中数量一致方可加工

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